高真空腔体
型号:
HVC-SS
产品概述:
这是一个预制多功能真空腔体,可以根据客户需求定制,例如作为真空溅射腔体(可在顶部添加多个溅射靶头),CVD,ALD等等。同时,也可以单独作为一个高真空储存盒使用。
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技术参数产品视频实验案例警示/应用提示配件详情
腔体

·304不锈钢制造,并配备有加强筋

·内部尺寸:470mm L×445mm D×522mm H

·配备φ380 mm 密封门,配备150 mm玻璃观察窗

·采用硅胶O型密封圈

·工作温度范围: -15 to 150°C


真空/压力

·E-3 torr 使用机械泵,具体型号请点击

·4E-5使用分子泵,具体型号请点击


接口/配套装置

·在腔体的右侧安装有一个KF40接口,用于连接真空泵

·共计4个KF25接口,三个在腔体右侧一个在左侧

·共计三个用于充放气的真阀,两个在在腔体后面,一个在左侧

·顶部盖板可以开启,用于连接客户定制的设备

·接口与阀门可以按照客户的要求进行定制

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应用

·磁控溅射腔体:

 一个完整的磁控溅射系统包含:1个真空腔体,磁控溅射靶头,溅射电源(DC or RF),真空泵系统(机械泵或者分子泵),水冷系统。

 图示为一个使用真空腔体搭建的完成磁控溅射系统(DC/RF可切换)

 此真空腔体可以安装单个或者多个溅射靶头。最多安装3个2"靶头或5个1"靶头。

 如果您有定制需求,请联系我们对靶头匹配等事宜进行讨论,我们可以在真空腔体上根据您的需求安装好靶头。

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应用案例

·可安装3个2"靶头或5个1"靶头

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可选

·请点击图1选择通用的真空配件,点击图2选择可以摆放此腔体的真空泵系统点击 图3选择相关磁控溅射配件

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尺寸

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质保

·质保一年


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