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Si+BN薄膜
产品概述:
Boron nitride is a chemical compound with chemical formula BN, consisting of equal numbers of boron and nitrogen atoms. BN is isoelectronic to a similarly structured carbon lattice and thus exists in various crystalline forms. The Cubic (sphalerite structure) bariety analogous to diamond is called c-BN. Its hardness is inferior only to diamond, but its thermal and chemical stability is superior. Low-pressure deposition of thin films of boron nitride are grown on Si (100) wafers for this product.
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Si+BN薄膜

·         BN Film coated by sputtering method

·         BN Thickness:  24 nm +/- 10%


Silicon Wafer Specifications

·         Conductive type:        Si   n- type

·         Resistivity:                  1- 10 ohm-cm

·         Size:                          4" diameter +/- 0.5 mm   x 0.525 +/- 0.025 mmth

·         Orientation:                (100) +/- 0.5o

·         Polish:                        One  sides  polished

·         Surface roughness:     Prime

·         Packing:                      Vacuum packed on a 4" single wafer carrier box


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