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Si+BN薄膜
- 产品概述：
- Boron nitride is a chemical compound with chemical formula BN, consisting of equal numbers of boron and nitrogen atoms. BN is isoelectronic to a similarly structured carbon lattice and thus exists in various crystalline forms. The Cubic (sphalerite structure) bariety analogous to diamond is called c-BN. Its hardness is inferior only to diamond, but its thermal and chemical stability is superior. Low-pressure deposition of thin films of boron nitride are grown on Si (100) wafers for this product.
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技术参数产品视频实验案例警示/应用提示配件详情
| Si+BN薄膜 |
· BN Film coated by sputtering method · BN Thickness: 24 nm +/- 10%
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| Silicon Wafer Specifications |
· Conductive type: Si n- type · Resistivity: 1- 10 ohm-cm · Size: 4" diameter +/- 0.5 mm x 0.525 +/- 0.025 mmth · Orientation: (100) +/- 0.5o · Polish: One sides polished · Surface roughness: Prime · Packing: Vacuum packed on a 4" single wafer carrier box
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